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Tecnologia, poltica e progresso: que tragdias ainda esto por vir? 514s16

PorPaulo F. Ribeiro
O recente desastre da Vale em Brumadinho nos leva a refletir ainda mais sobre a relao desenvolvimento tecnolgico, liberdade, poltica e governo. Este contexto me fez reler um antigo ensaio do C.S. Lewis de 1958*, mas com grandes aplicaes para nosso tempo.
Lewis comea o artigo perguntando se existe melhoramentos na condio humana. Obviamente, isso permite apenas uma resposta conjectural. Mas, duas coisas podem ser identificadas. A primeira, diz Lewis, o avano crescente da cincia e tecnologia. Vamos curar doenas ou produzir mais guerra? Meu palpite que faremos as duas coisas, removendo velhas misrias e produzindo novas. A segunda a relao entre governo e cidados. Na viso humanitria moderna, todo crime patolgico; no exige castigo retributivo, mas cura. Isso separa a lei criminal dos conceitos de justia.

Nesse sentido, o criminoso deixa de ser um sujeito com direitos e deveres, e torna-se apenas um objeto sobre o qual a sociedade pode trabalhar. Se os crimes so doenas, por que as doenas deveriam ser tratadas diferentemente dos crimes? E quem exceto os especialistas podem definir doenas?
E no adianta perguntar: "O que eu fiz para merecer isso">Os engenheiros foram presos. E da?
Doutor em Engenharia Eltrica pela Universidade de Manchester, na Inglaterra, foi Professor em Universidades nos Estados Unidos, Nova Zelndia e Holanda, e Pesquisador em Centros de Pesquisa (EPRI, NASA). Atualmente Professor Titular Livre na Universidade Federal de Itajub, MG. originrio do Vale do Paje e torcedor do Santa Cruz.
>> http://lattes.cnpq.br/2049448948386214
>> https://scholar.google.com/citations?=38c88BoAAAAJ&hl=en&oi=ao

Pesquisa publicada recentemente aponta os cientistas destacados entre o top 2% dos pesquisadores de maior influncia no mundo, nas diversas reas do conhecimento. Destes, 600 cientistas so de Instituies Brasileiras. O Professor Paulo F. Ribeiro foi includo nesta lista relacionado a rea de Engenharia Eltrica.
  • Textos publicados: 78 [ver]

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